吸附式local scrubber 尾气处理设备可处理气体种类包括半导体、液晶以及太阳能等行业中蚀刻制程与化学气相沉积制程中使用的特气,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等
适合于半导体、新材料及高等院校、科研院所、航空航天和微电子等需要对燃爆毒腐气体处理的企业或实验室